個人プロファイル

e-rad ID

40323927

Researchmap ID

1000301094

Research Interests

応用物性

URL

http://er-web.jmk.ynu.ac.jp/html/HABUKA_Hitoshi/en.html

外部ポジション

Keywords

  • TP Chemical technology

Fingerprint Fingerprintは、論文等の研究業績を自然後処理することで作成された、重み付けキーワード群です。研究者や組織の主要な研究内容を表します。

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Substrates Engineering & Materials Science
Hydrogen Engineering & Materials Science
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研究成果 1982 2016

  • 907 引用
  • 17 h指数
  • 90 記事
  • 36 会議での発言
  • 5

Etching rate behavior of 4H-silicon carbide epitaxial film using chlorine trifluoride gas

Hirooka, A., Habuka, H. & Kato, T. 2016 Materials Science Forum. Trans Tech Publications Ltd, 巻 858, p. 715-718 4 p. (Materials Science Forum; 巻数 858)

研究成果: 著書の章/レポート/会議のプロシーディングス会議での発言

Silicon carbide
Epitaxial films
Chlorine
Etching
Substrates

Formation and removal of carbon film on silicon carbide surface using chlorine trifluoride gas

Hirooka, A., Habuka, H., Takahashi, Y. & Kato, T. 2016 : : ECS Journal of Solid State Science and Technology. 5, 7, p. P441-P445

研究成果: ジャーナルへの寄稿記事

Carbon films
Silicon carbide
Etching
Chlorine
Gases

In situ cleaning process of silicon carbide epitaxial reactor for removing film-type deposition formed on susceptor

Mizuno, K., Habuka, H., Ishida, Y. & Ohno, T. 2016 Materials Science Forum. Trans Tech Publications Ltd, 巻 858, p. 237-240 4 p. (Materials Science Forum; 巻数 858)

研究成果: 著書の章/レポート/会議のプロシーディングス会議での発言

Silicon carbide
Cleaning
Chlorine
Etching
Gases
Crystals
Temperature
Silicon
Gases
Hydrogen

Material evaluation and development support project for high current SiC power module

Iguchi, T., Takahashi, A. & Habuka, H. 2016 7 25 Proceedings of the 2016 28th International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs, ISPSD 2016. Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., 巻 2016-July, p. 131-134 4 p. 7520795

研究成果: 著書の章/レポート/会議のプロシーディングス会議での発言

Silicon carbide
Semiconductor devices
Carbon dioxide
History